案例研究 - 从半导体废水中去除唑类 Removal of Azoles

设备容量/流量

低流量

关注的化合物

各种唑类化合物

进水浓度

~7.5µmg/L

处理目標

>85%

单位能耗

30 kWh/m³

半导体制造厂和集成设备制造商（IDM）是重度用水的用户。大量的水用于各种目的，从在工艺之间清洁晶片到在洁净室中产生湿度。

由于清洗超纯水的成本很高，水被广泛地再利用和回收采用。把水处理得刚好足以用于下一个工艺，从而维持效率。在纯水用量比第一次使用少的生产过程部分中重复使用水，这是常见的做法。例如，用于冲洗的水随后可用于冷却。

制造厂和 IDM 正在推动越来越多水被再利用，以降低成本并改善对环境的影响。

所有制造厂在生产线的各个阶段都有一系列的水处理工艺。问题在于，如果现有的水处理工艺无法去除污染物，那么就需要使用焚化法将其在场外处置，这既昂贵又对环境非常不利。

这是我们的一位客户遇到的问题，他的废水中含有唑类化合物，在处理后仍然存在。

一家世界领先的 IDM 来到我们这里，因为他们的水中含有唑类化合物，而他们现有的水处理工艺无法去除这些唑类化合物。

客户不得不使用焚烧来处理有害水，这不仅非常昂贵，而且违背了他们的环境政策。像许多 IDM 和制造厂一样，他们试图再利用更多非工艺用水。

现有的水处理技术没有将唑类化合物去除到合适的水平。显然要从水中去除唑类化合物，需要进行不同类型的水处理。

我们的 Nyex-e 系统旨在氧化危险的有机化学品，例如腐蚀抑制剂或唑类化合物。我们实施了一项实验室测试来确认，结果不言而喻。

通过使用我们的 Nyex-e 水处理工艺，我们实现了处理水中 > 85% 唑类化合物的目标，里面含有吡唑、苯并三唑和 3-氨基-1,2,4-三氮唑，能耗约为 30 kWh/m3.

具体处理水平如下：

要详细了解我们在半导体领域的工作，请参阅此处。

如果您想知道我们是否可以处理您的废水中的特定化学品，请与我们联系。如需我们水处理技术可以处理的污染物的列表以及处理数据，请参阅我们的“污染物”页面

案例研究：
从半导体废水中去除唑类化合物